公司新闻

1. 深圳万稳实业精细化生产管控｜驰明普 CMP 抛光液严控品质稳定量产

   在半导体耗材行业，抛光液微小性能波动将直接造成晶圆、衬底报废，良率损失成本极高，因此精细化、标准化、全流程可控的生产体系...

   2026-07-10查看详情

2. 国产 CMP 抛光液替代提速｜深圳万稳实业驰明普完善半导体全制程抛光耗材体系

   2026 年国内半导体产业链自主可控进入深度攻坚阶段，CMP 化学机械抛光液作为晶圆制造、先进封装、第三代半导体、精密光...

   2026-07-10查看详情

3. 把握国产替代黄金机遇 万稳实业加速拓宽CMP耗材本土配套版图

   当前国内半导体、精密制造产业高速发展，叠加供应链自主可控政策导向，CMP抛光材料国产替代进入黄金发展期。行业数据显示，国...

   2026-07-08查看详情

4. 坚守匠心精工理念 万稳实业以精细化生产铸就高端抛光耗材品质

   高端精密耗材的核心竞争力源于精细化生产与严苛的工艺把控。万稳实业自成立以来坚守匠心精工生产理念，聚焦CMP抛光液全生产流...

   2026-07-07查看详情

5. 完善售后技术服务体系 万稳实业以一站式服务提升客户合作体验

   在CMP抛光耗材行业，产品性能与技术服务相辅相成，完善的落地服务是保障客户工艺稳定、降本增效的关键。不同于行业单纯售卖产...

   2026-07-07查看详情

6. 深耕精密光学制造领域 万稳实业抛光耗材赋能消费电子品质升级

   随着消费电子向轻量化、高清化、精致化升级，智能穿戴设备、手机镜头、车载光学、AR光学器件等产品对基材抛光精度、外观质感、...

   2026-07-06查看详情

7. 突破储存稳定性难题 万稳实业长效稳定型CMP抛光液实现技术新升级

   CMP抛光液的储存稳定性、运输稳定性是行业核心技术痛点，也是制约国产耗材大规模普及的关键因素。多数国产抛光液受磨料分散技...

   2026-07-06查看详情

8. 驰明普碳化硅CMP抛光液 高硬度衬底抛光参数突破赋能第三代半导体

   碳化硅SiC 莫氏硬度达 9.2–9.5，共价键结构化学惰性强，传统硅基抛光液去除效率低、衬底划痕严重，是第三代半导体规...

   2026-07-03查看详情

9. 驰明普CMP后清洗剂 纳米颗粒剥离参数升级破解先进制程良率瓶颈

   CMP抛光后晶圆表面残留磨料颗粒、金属离子、有机钝化膜，是制约 7–14nm 先进制程芯片良率提升的关键痛点，对清洗液洁...

   2026-07-03查看详情

10. 适配晶圆厂降本需求 万稳实业高稳定性CMP耗材助力产线提质增效

    2026年国内晶圆产能持续释放，行业进入规模化量产提质增效阶段，各大晶圆制造企业在保障产品良率的同时，持续优化生产成本、...

    2026-07-02查看详情

11. 强化产学研深度融合 万稳实业联合高校攻克CMP材料前沿技术难题

    高端电子化学品技术突破离不开产学研协同创新，为持续夯实技术研发实力，突破CMP抛光材料前沿技术壁垒，万稳实业深化校企合作...

    2026-07-02查看详情

12. 以场景化创新破局 万稳实业告别通用耗材内卷打造细分赛道优势

    国内CMP抛光耗材行业竞争日趋激烈，大量厂商扎堆通用型抛光液赛道，同质化低价内卷严重，产品性能、应用场景高度重合，难以满...

    2026-07-02查看详情