公司新闻

1. 驰明普碳化硅CMP抛光液迭代上新 全方位适配第三代半导体SiC衬底粗抛精抛工艺

   新能源汽车 800V 高压平台、光伏储能、大功率快充设备产业全面爆发，带动国内碳化硅衬底产线密集扩建，碳化硅作为第三代半...

   2026-07-28查看详情

2. 驰明普长效稳定CMP抛光液完成全线升级 解决国产抛光液分层沉降技术痛点

   长久以来，储存易分层、研磨颗粒沉降是制约国产 CMP 抛光液大规模导入高端量产产线的核心技术短板，也是下游晶圆、衬底、光...

   2026-07-27查看详情

3. 深圳万稳实业驰明普完善全系列CMP抛光耗材 打造抛光清洗一体化国产解决方案

   2018 年成立的深圳万稳实业，依托深圳本地半导体、精密光学产业集群，以自有品牌驰明普深耕 CMP 化学机械抛光液研发、...

   2026-07-27查看详情

4. 2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告解读｜国产 CMP 抛光材料迎来黄金替代发展周期

   近期行业机构发布《2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告》，报告全面梳理国内 CMP 抛光液市场规模、细分赛道需求、...

   2026-07-24查看详情

5. 精密光学 CMP 抛光耗材行业趋势｜蓝宝石陶瓷抛光液国产替代 2026 持续提速

   消费电子、Mini LED、AR 光学、光纤通信四大精密光学产业持续扩容，带动蓝宝石、氧化铝陶瓷基材 CMP 抛光耗材需...

   2026-07-24查看详情

6. CMP后清洗液行业发展趋势 2026｜陶瓷不锈钢专用细分清洗耗材迎来国产替代增长风口

   CMP 后清洗是抛光工艺不可或缺的关键工序，清洗液性能直接决定工件良率与成品品质。2026 年国内 CMP 后清洗液行业...

   2026-07-23查看详情

7. 长效稳定型 CMP 抛光液技术分析｜驰明普抛光液储存与循环使用核心优势全解析

   2026 年国内 CMP 抛光液行业竞争加剧，下游半导体、光学、精密加工企业不再只关注抛光去除速率，抛光液储存稳定性、上...

   2026-07-23查看详情

8. 长效稳定CMP抛光液研发突破｜驰明普攻克浆料沉降分层，延长储存与上机使用寿命

   国内大量中小抛光液产品普遍存在储存 30 天内磨料沉降、液体分层、上机后去除速率衰减等问题，企业大批量备货损耗严重，频繁...

   2026-07-22查看详情

9. 碳化硅 CMP 抛光液厂家｜深圳万稳驰明普研发取得突破，布局第三代半导体抛光耗材赛道

   第三代半导体碳化硅（SiC）功率器件、碳化硅衬底是新能源汽车、光伏逆变器、储能设备核心材料，碳化硅晶圆 CMP 抛光工艺...

   2026-07-22查看详情

10. CMP 抛光液 200ml 小样定制｜驰明普推出试样服务，大幅降低客户工艺研发测试成本

    在半导体、蓝宝石、陶瓷精密加工行业，企业新品工艺验证、产线调试阶段，采购大桶抛光液成本高、库存压力大，多数海外厂商不提供...

    2026-07-21查看详情

11. 不锈钢 CMP 专用清洗液｜深圳万稳驰明普新品量产，消除不锈钢抛光发黑水渍缺陷

    精密不锈钢零部件、半导体不锈钢载具、医疗器械不锈钢配件抛光加工中，抛光后极易出现表面发黄、发黑、水渍印、磨料斑点等缺陷，...

    2026-07-21查看详情

12. 光学基材专用清洗剂｜驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂攻克抛光后颗粒残留痛点

    精密光学、蓝宝石 LED 衬底、陶瓷元器件加工行业长期面临抛光后清洗难题：普通纯水、碱性清洗剂无法彻底清除纳米磨料颗粒残...

    2026-07-20查看详情