公司新闻 行业动态

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  1. 金相专用清洗剂成套推出 驰明普不锈钢 / 陶瓷蓝宝石金相清洗液适配各类试样

    金相制样完整流程中,抛光后清洗直接决定观测画面洁净度,但多数实验室仅使用通用工业清洗剂,金属试样易腐蚀发黑,陶瓷蓝宝石孔...

    2026-08-05查看详情
  2. 半导体硅片金相抛光液优化升级 驰明普适配晶圆切片金相失效检测

    芯片晶圆切片、半导体器件失效分析中,硅基金相试样对抛光洁净度、无损伤要求严苛,普通金相抛光液金属杂质超标、胶体团聚,抛光...

    2026-08-04查看详情
  3. 陶瓷蓝宝石金相抛光液成套方案 驰明普金刚石悬浮液适配硬脆试样粗精抛

    氧化锆陶瓷、蓝宝石、碳化硅硬脆材料金相试样制备难度极高,切割后表面存在厚重刀纹与损伤层,单一精抛液去除效率极低,粗磨金刚...

    2026-08-04查看详情
  4. 分材质金属金相抛光液上新 驰明普不锈钢铝合金钛合金金相制样专用抛光液

    航空航天、新能源汽车、精密模具行业金相检测需求逐年增长,不锈钢、铝合金、钛合金作为主流金属试样,硬度、化学活性差异巨大,...

    2026-08-03查看详情
  5. 多材质金相抛光液解决方案落地 驰明普依托全品类 CMP 耗材覆盖金属/硅/陶瓷制样

    随着新能源、半导体、航空航天、精密五金行业质检标准持续升级,金相分析成为材料性能判定核心环节,但行业长期存在一大痛点:不...

    2026-08-03查看详情
  6. 2026驰明普五大核心发展战略发布 全方位拓宽国产CMP抛光耗材替代赛道

    2026年国内半导体、第三代半导体、精密光学产业持续扩产,国产 CMP 抛光材料迎来黄金替代窗口期,海外高端耗材供货周期...

    2026-07-31查看详情
  7. 万稳实业‑驰明普(CHAMPPRO)坚持核心配方自研 实现细分CMP抛光材料全链条自主可控

    半导体产业链自主可控上升为国家长期核心战略,CMP 化学机械抛光液作为晶圆、衬底、光学元件制造不可或缺的关键核心耗材,长...

    2026-07-31查看详情
  8. 驰明普通用CMP抛光液适配先进封装 TSV 工艺 助力封装产业耗材自主配套

    2026 年国内 2.5D/3D 封装、TSV 硅通孔、混合键合产线集中扩建,AI HBM 存储、车载算力芯片、消费射频...

    2026-07-30查看详情
  9. 驰明普CMP后清洗液全线优化 抛光清洗一体化配套解决基材颗粒残留缺陷

    过去行业研发重心集中于 CMP 抛光液单品,配套清洗药剂长期被市场忽视,但随着下游晶圆、衬底、光学元件制造企业对成品良率...

    2026-07-30查看详情
  10. 驰明普不锈钢CMP专用清洗液迭代上新 解决精密金属抛光后腐蚀残留难题

    半导体设备精密构件、医疗器械金属零件、高端光学仪器结构件普遍采用镜面不锈钢材质,生产加工流程包含 CMP 抛光整平工序,...

    2026-07-29查看详情
  11. 驰明普标准化 200ml抛光液小样服务落地 降低国产CMP耗材研发验证成本

    国产替代持续深化背景下,国内大量半导体初创企业、高校材料实验室、中小精密光学加工厂、碳化硅衬底研发机构开启抛光耗材国产化...

    2026-07-29查看详情
  12. 驰明普蓝宝石陶瓷 CMP 抛光液成套上市 助力精密光学制造耗材国产化

    Mini/MicroLED 背光显示、车载光学镜头、智能穿戴氧化锆陶瓷盖板市场持续扩容,蓝宝石衬底、陶瓷光学元件超精密抛...

    2026-07-28查看详情