发布时间：2026-07-20 来源：网络
精密光学、蓝宝石 LED 衬底、陶瓷元器件加工行业长期面临抛光后清洗难题：普通纯水、碱性清洗剂无法彻底清除纳米磨料颗粒残留，容易造成衬底麻点、外延层漏电、光学镜片透光率下降，大幅拉低产品良率。深圳万稳实业旗下驰明普全新推出陶瓷 / 玻璃 / 蓝宝石专用清洗剂，针对 CMP 抛光后工序定制配方，实现无残胶、无颗粒吸附、低表面张力快速清洗，补齐光学基材抛光后清洗耗材国产化缺口。
驰明普陶瓷、玻璃、蓝宝石清洗剂是配套公司蓝宝石 CMP 精抛液、陶瓷 CMP 精抛液开发的专用后道清洗产品，区别于通用工业清洗剂，产品采用中性温和配方，不含强腐蚀氢氟酸、硝酸，不会腐蚀蓝宝石晶体、光学陶瓷表层镀膜，适配超声波清洗、喷淋清洗、浸泡清洗全工艺。产品表面张力经过专项优化，实测仅需短时间超声即可剥离基材表面二氧化硅、氧化铝磨料，对比传统清洗剂可缩短 40% 清洗时长，节约纯水、电能生产成本。
从产品应用场景来看，该清洗剂覆盖 4/6/8 英寸蓝宝石 LED 衬底、智能手表蓝宝石表镜、手机光学镜头玻璃、氧化铝陶瓷基板、光纤陶瓷插芯等主流光学基材。很多加工企业反馈，使用进口抛光液搭配廉价清洗剂，批量生产中 15%-20% 产品因颗粒残留报废，返工成本居高不下；驰明普抛光液 + 配套清洗剂成套方案上线后，基材表面颗粒不良率降至 0.5% 以内，无需额外轻抛修复工序，简化整条产线流程。
深圳万稳研发团队介绍，在清洗剂配方研发阶段，团队针对蓝宝石、陶瓷不同材质晶体特性做差异化调整：蓝宝石基材款降低碱金属离子含量，避免外延发光效率衰减；高硬度陶瓷款添加分散助剂，解决陶瓷微孔内部磨料卡塞问题；光学玻璃款添加抗镀膜腐蚀组分，保护镜片多层光学膜层不受损伤。所有产品均采用 500ml 标准工业包装，支持大批量桶装定制，可适配自动化清洗流水线灌装设备。
