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长效稳定CMP抛光液研发突破|驰明普攻克浆料沉降分层,延长储存与上机使用寿命

发布时间:2026-07-22      来源:网络


国内大量中小抛光液产品普遍存在储存 30 天内磨料沉降、液体分层、上机后去除速率衰减等问题,企业大批量备货损耗严重,频繁更换浆料还会导致产线工艺波动、产品良率不稳定。深圳万稳实业驰明普完成长效稳定型 CMP 抛光液核心配方研发突破,通过改性纳米磨料、高分子分散助剂双重技术优化,抛光液常温密封储存 6 个月无明显沉降,上机连续使用 72 小时性能稳定,大幅降低企业耗材损耗与产线调试成本。

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抛光液稳定性是衡量产品品质的核心指标,普通国产抛光液多采用未改性球形氧化硅、氧化铝磨料,颗粒表面电荷不稳定,长期静置后极易团聚沉淀,底部厚重磨料无法正常使用,整桶浆料报废;上机循环抛光过程中,分散体系快速失效,磨料聚集产生大颗粒,划伤蓝宝石、陶瓷、不锈钢工件表面,造成批量报废。驰明普研发团队针对分散体系做专项改良,对纳米磨料表面进行有机包覆改性,提升颗粒悬浮能力,搭配低粘度长效分散剂,从根源解决分层、沉降两大行业痛点。

实测数据显示,驰明普蓝宝石 CMP 精抛液、陶瓷 CMP 精抛液常温存放 6 个月,底部沉淀厚度不足 0.5cm,轻微摇晃即可恢复均匀分散状态,浆料去除速率、表面粗糙度指标与全新产品无明显差距;上机循环抛光工况下,连续 3 天不间断使用,无需补充新浆料,工件表面 Ra 值波动范围控制在 ±0.02nm 以内,对比普通抛光液,浆料使用周期提升 3 倍,耗材采购成本降低 35%。

除抛光液本体配方优化外,公司配套推出同体系长效 CMP 后清洗剂,清洗剂不分层、无析出,适配自动化循环清洗产线,减少清洗槽更换频次。所有产品均标注完整储存条件、保质期、稀释配比,配套专业储存、使用指导手册,帮助客户规范仓储管理,减少浆料失效损耗。

对于规模化量产工厂,抛光液长期稳定性直接关系月度良品率与生产成本,驰明普长效稳定系列抛光液现已全面上线,支持 200ml 小样免费测试,客户可对比进口浆料、普通国产浆料储存、上机表现差异。深圳万稳实业技术团队可上门协助客户优化浆料储存、循环供给工艺,进一步延长抛光液使用寿命,降本增效。