新闻中心

1. 国产 CMP 抛光材料自主可控｜深圳万稳实业驰明普全系列抛光液助力半导体产业链国产替代

   2026 年国内半导体、第三代半导体、精密光学产业迎来持续扩产周期，产业链自主可控成为行业核心发展主线，CMP 化学机械...

   2026-07-16查看详情

2. 光学基材专用清洗剂｜驰明普陶瓷蓝宝石玻璃清洗液适配 CMP 抛光后洁净工序

   陶瓷氧化锆盖板、蓝宝石 LED 衬底、光学玻璃镜片抛光后，表面会附着大量硅溶胶研磨颗粒、有机抛光助剂，这类微小颗粒极易嵌...

   2026-07-16查看详情

3. 碳化硅 CMP 抛光液行业前景分析 第三代半导体衬底耗材国产替代加速落地

   2026 年 800V 高压新能源汽车平台全面普及，光伏储能、工业变频器、大功率快充设备市场需求持续放量，碳化硅作为第三...

   2026-07-15查看详情

4. 不锈钢 CMP 专用清洗液｜深圳万稳驰明普低腐蚀高洁净金属抛光后清洗剂

   精密不锈钢零部件广泛应用于半导体设备配件、光学仪器结构件、医疗器械外壳，加工过程需经过 CMP 抛光整平工序，抛光后表面...

   2026-07-15查看详情

5. CMP抛光液200ml小样定制｜深圳万稳驰明普全系列耗材开放小规格试样服务

   半导体研发实验室、第三代半导体初创企业、精密光学中小加工厂在新品工艺开发阶段，仅需少量抛光液完成上机验证，但进口抛光液普...

   2026-07-15查看详情

6. 2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告 半导体抛光耗材国产化迎来高速窗口期

   2026 年国内半导体产业链扩产节奏持续加快，成熟制程晶圆厂、存储芯片、先进封装产线集中投产，叠加 AI 算力芯片、车载...

   2026-07-14查看详情

7. 碳化硅 CMP 抛光液厂家｜深圳万稳驰明普 SiC 衬底抛光耗材助力第三代半导体量产

   新能源汽车、光伏逆变器、储能变流器产业爆发，带动碳化硅（SiC）功率器件需求持续暴涨，碳化硅衬底作为第三代半导体核心基材...

   2026-07-14查看详情

8. 长效稳定 CMP 抛光液研发突破｜深圳万稳驰明普解决抛光液分层沉降痛点

   国产 CMP 抛光液长期存在储存稳定性短板，常温存放 1-2 个月即出现明显分层、研磨颗粒沉降，使用前需长时间搅拌，若搅...

   2026-07-14查看详情

9. 驰明普不锈钢清洗液上线200ml定制小样，适配精密金属构件清洗实验

   半导体设备腔体、精密不锈钢治具、新能源金属结构件清洗工艺持续迭代，304、316L 不锈钢材质对清洗剂缓蚀、除油、颗粒剥...

   2026-07-13查看详情

10. 蓝宝石陶瓷 CMP 抛光液厂家｜深圳万稳驰明普耗材助力精密光学制造国产化

    消费电子、Mini/MicroLED、红外光学、智能穿戴行业高速发展，带动蓝宝石衬底、氧化锆陶瓷盖板、光学玻璃元件超精密...

    2026-07-13查看详情

11. 驰明普一站式 CMP 耗材技术服务｜深圳万稳实业完善抛光液售后全流程支撑

    国产 CMP 抛光液厂商普遍重销售、轻技术服务，客户采购后仅提供产品，缺乏工艺调试、产线适配、故障解决配套支持，导致很多...

    2026-07-13查看详情

12. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂推出200ml小样，一站式多基材清洗测试

    陶瓷、光学玻璃、蓝宝石抛光后清洗工艺研发中，微量残渣剥离、基材防腐蚀是核心测试指标，三类硬质基材理化特性不同，清洗剂表面...

    2026-07-10查看详情