发布时间：2026-07-15 来源：网络
半导体研发实验室、第三代半导体初创企业、精密光学中小加工厂在新品工艺开发阶段，仅需少量抛光液完成上机验证，但进口抛光液普遍 20L、25L 起订，大批量采购造成耗材浪费、研发成本攀升，行业缺少低成本、小批量试样渠道。深圳万稳实业旗下驰明普品牌近期集中上线全品类 200ml 定制小样服务，覆盖通用 CMP 抛光液、碳化硅抛光液、蓝宝石 CMP 精抛液、陶瓷 CMP 精抛液、CMP 后清洗剂、不锈钢专用清洗液六大产品线，小规格试样快速调配、极速寄送，大幅降低各行业客户前期工艺验证门槛，助力国产 CMP 耗材快速落地替代。
在半导体、光学材料新品研发阶段，工艺工程师需要多次调试抛光液配比、抛光参数，单次上机测试仅需几百毫升抛光液。海外品牌抛光液最低起订量 20L，单桶采购成本高，剩余抛光液长期存放稳定性下降，极易分层报废，造成大量耗材浪费；部分国产厂商仅支持大批量采购，不提供小试样，中小企业、高校实验室只能高价采购大桶耗材，严重拉长研发周期、抬高项目成本。 针对该市场痛点，驰明普打通小规格灌装生产线，独立配置 200ml 专用洁净灌装设备，实现小批量试样单独调配、分装，不与量产大桶产品共用产线，避免交叉污染，保障试样性能与批量产品完全一致。
本次开放 200ml 小样的产品清单完整覆盖公司全部核心产品线，适配不同行业客户需求：
1. 半导体赛道：通用 CMP 抛光液、CMP 后清洗剂，适配 8/12 英寸晶圆、先进封装 TSV 抛光工艺验证；
2. 第三代半导体赛道：碳化硅 CMP 抛光液，适配 4/6 英寸 SiC 衬底粗抛、精抛研发测试；
3. 精密光学赛道：蓝宝石 CMP 精抛液、陶瓷 CMP 精抛液、陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂，适配 LED 衬底、陶瓷盖板、光学镜片抛光验证；
4. 精密金属加工赛道：不锈钢专用 CMP 清洗液，适配不锈钢构件抛光后低腐蚀清洗测试。 客户可根据自身基材、工艺需求单独申领单款试样，或多品类组合试样同步测试，技术工程师免费配套提供产品参数、参考抛光工艺文档。
依托深圳宝安自有厂区，驰明普 200ml 小样订单处理流程高效：客户通过电话 185-6575-0095、微信 CMP-ChampPro 提交试样需求，标注基材类型、设备型号、粗糙度目标，研发工程师当日完成配方微调，灌装、质检后最快 48 小时寄出；珠三角本地客户可上门厂区自取试样，当天即可上机测试，对比进口耗材 15-30 天交期具备压倒性时效优势。 所有小样配套完整 MSDS 安全说明书、上机操作建议、储存注意事项，方便实验室规范使用与数据记录。
申领 200ml 小样的客户同步享受免费技术服务：线上远程指导抛光参数调试、抛光液稀释配比、清洗工序搭配；珠三角区域企业试样上机出现缺陷、良率不达预期，可预约工程师上门现场调试，优化整套抛光清洗工艺，缩短工艺验证周期。客户完成试样测试、确认性能达标后，批量采购可无缝衔接原有定制配方，无需重新调试工艺。
国产替代进程中，大量初创材料企业、高校实验室、中小制造工厂需要低成本试样渠道验证国产抛光耗材，驰明普将持续优化 200ml 小样生产线，扩充试样产能，缩短调配周期，后续计划推出 500ml、1L 多规格小包装选择，全方位覆盖从实验室研发到小批量试产全阶段耗材需求。
