发布时间：2026-07-14 来源：网络
国产 CMP 抛光液长期存在储存稳定性短板，常温存放 1-2 个月即出现明显分层、研磨颗粒沉降，使用前需长时间搅拌，若搅拌不均匀直接上机，会造成晶圆、衬底批量划痕、粗糙度超标，不仅增加客户产线搅拌工时，还带来库存损耗、废液浪费等额外成本。深圳万稳实业研发团队经过两年配方迭代、上千组稳定性对比测试，成功突破抛光液长效储存稳定性技术难题，推出驰明普长效稳定型全系列 CMP 抛光液，常温静置 6 个月无明显分层沉降，大幅降低客户库存管理与产线使用成本，目前该系列产品已全面开放试样与批量采购。
CMP 抛光液核心成分为纳米研磨颗粒、分散剂、氧化剂、螯合剂，颗粒粒径极小，长期静置极易受温度、离子浓度影响发生团聚沉降。多数国产抛光液受限于低成本分散助剂体系，稳定性较差，存在三大行业通病：第一，存放 30 天以上底部大量沉淀，使用前人工搅拌 30 分钟以上才能上机，占用产线工时；第二，沉淀颗粒无法完全打散，上机产生大量表面缺陷，良率下降；第三，夏季高温环境稳定性进一步恶化，大批量备货损耗严重，客户只能少量多次采购，拉高物流与采购成本。 海外高端抛光液虽稳定性优异，但价格高昂、交期长、无法定制配方，中小制造企业难以承担长期采购成本，行业急需兼顾稳定性与性价比的国产抛光液解决方案。
万稳实业研发团队摒弃传统单一分散剂配方，搭建十二功能模块化助剂体系，针对不同研磨料（二氧化硅、氧化铝）、不同基材抛光场景，搭配专属分散、螯合、抗沉降助剂组合，从分子层面降低纳米颗粒团聚概率。同时优化抛光液 PH 缓冲体系，大幅降低温度波动对颗粒分散状态的影响，夏季 35℃高温、冬季低温环境下均可维持均匀分散状态。 长效稳定型通用 CMP 抛光液、碳化硅抛光液、蓝宝石抛光液同步完成配方升级，经过恒温老化加速测试，模拟常温仓储 6 个月，底部沉降量低于行业标准 50%，轻微摇匀即可恢复均匀状态，无需长时间搅拌，大幅简化产线操作流程。
研发实验室平行对比测试数据显示：同等储存条件下，市面普通国产抛光液存放 60 天沉降厚度超 12mm，驰明普长效稳定抛光液 6 个月沉降厚度不足 2mm；上机抛光性能无衰减，抛光去除速率、表面粗糙度、缺陷数量与新鲜原液保持一致，不会因长期存放出现性能下滑。 碳化硅衬底客户实测反馈，切换驰明普长效稳定型 SiC 抛光液后，仓库备货周期从 15 天延长至 90 天，减少采购频次，物流成本下降 20%；产线搅拌工时缩减 90%，单批次抛光良率稳定提升 5% 左右，综合耗材使用成本显著降低。
本次稳定性技术升级覆盖驰明普全品类抛光耗材：通用半导体 CMP 抛光液、碳化硅 CMP 抛光液、蓝宝石 CMP 精抛液、陶瓷 CMP 精抛液，配套 CMP 后清洗剂同步优化储存稳定性，清洗液长期存放无分层、无变质，药剂性能稳定。 所有升级款产品均开放 200ml 小规格试样，客户可免费申领新旧版本抛光液做平行对比测试，直观验证长效储存性能差异；批量采购客户可享驻场技术服务，协助完成产线新旧抛光液切换，优化搅拌、供液工艺参数。
储存稳定性是国产 CMP 抛光液追赶进口品牌的核心技术指标之一，深圳万稳实业驰明普将持续投入分散助剂、缓冲体系研发，进一步延长抛光液稳定储存周期，同步降低配方生产成本，让更多晶圆、第三代半导体、精密光学企业用上高稳定性、高性价比国产抛光耗材。
