行业动态

1. 驰明普不锈钢清洗液上线200ml定制小样，适配精密金属构件清洗实验

   半导体设备腔体、精密不锈钢治具、新能源金属结构件清洗工艺持续迭代，304、316L 不锈钢材质对清洗剂缓蚀、除油、颗粒剥...

   2026-07-13查看详情

2. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂推出200ml小样，一站式多基材清洗测试

   陶瓷、光学玻璃、蓝宝石抛光后清洗工艺研发中，微量残渣剥离、基材防腐蚀是核心测试指标，三类硬质基材理化特性不同，清洗剂表面...

   2026-07-10查看详情

3. 驰明普蓝宝石 CMP 精抛液上线200ml小样定制，加速光学衬底工艺迭代

   Mini/Micro LED 产业持续扩产，蓝宝石光学衬底、智能穿戴光学镜片新工艺研发需求旺盛。蓝宝石单晶硬度高，精抛配...

   2026-07-10查看详情

4. 驰明普陶瓷CMP精抛液推出200ml定制小样，适配精密陶瓷工艺研发

   智能手机陶瓷中框、射频陶瓷滤波器、半导体氮化铝陶瓷基板市场需求持续攀升，大量新材料企业、材料实验室持续优化陶瓷精密抛光工...

   2026-07-09查看详情

5. 驰明普碳化硅CMP抛光液开放200ml小样定制，助力第三代半导体研发

   新能源汽车、光伏储能产业爆发带动碳化硅功率器件研发热潮，大量科研院所、初创企业围绕 6 英寸、8 英寸 SiC 衬底开展...

   2026-07-09查看详情

6. 驰明普CMP后清洗剂上线200ml定制小样，适配晶圆微量清洗实验

   先进制程晶圆抛光后清洗工艺对配方匹配度高度敏感，不同抛光液、衬底材料、清洗设备对应的清洗剂配比存在明显差异，微小组分改动...

   2026-07-09查看详情

7. 驰明普通用 CMP 抛光液推出200ml小样定制，降低芯片研发试错成本

   国内半导体创新赛道持续扩容，芯片初创企业、高校微电子实验室、特色工艺研发机构数量逐年上涨，各类先进逻辑、存储、Chipl...

   2026-07-08查看详情

8. 驰明普不锈钢清洗液 低腐蚀高洁净参数适配精密金属构件清洗

   半导体设备不锈钢腔体、精密五金、光学不锈钢治具抛光后，表面会留存金属磨料、油污、氧化皮、微量重金属离子，普通酸碱清洗液易...

   2026-07-08查看详情

9. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂 多基材洁净清洗参数一站式覆盖

   陶瓷、光学玻璃、蓝宝石元件抛光后表面会残留磨料粉末、抛光蜡、有机油脂、金属杂质，微量残留会直接造成镀膜脱落、外延失效、光...

   2026-07-07查看详情

10. 驰明普蓝宝石CMP精抛液 光学级抛光参数提升蓝宝石衬底加工良率

    蓝宝石作为 LED 外延衬底、光学窗口、智能穿戴光学镜片核心基材，硬度高、易产生亚表面损伤，精抛环节直接决定发光芯片亮度...

    2026-07-06查看详情

11. 驰明普通用半导体CMP抛光液 国产参数对标海外实现全制程替代

    随着国内 12 英寸晶圆厂产能持续扩张，先进逻辑、存储、Chiplet 先进封装对 CMP 抛光液胶体稳定性、去除速率、...

    2026-07-06查看详情

12. 驰明普陶瓷 CMP 精抛液 低缺陷精密抛光参数适配消费电子陶瓷元件

    消费电子陶瓷化已成行业明确趋势，手机陶瓷中框、陶瓷滤波器、陶瓷基板等元件对表面光洁度、平面度、无划痕要求持续提升，普通研...

    2026-07-03查看详情