行业动态

1. CMP后清洗液行业发展趋势 陶瓷不锈钢专用清洗剂填补国产耗材细分空白

   过往行业发展重心集中在 CMP 抛光液研发，配套清洗药剂长期被市场忽视，但随着下游制造企业对成品良率、外观品质要求不断提...

   2026-07-17查看详情

2. 精密光学 CMP 抛光耗材行业趋势 蓝宝石陶瓷抛光液国产化市场空间广阔

   Mini/MicroLED 背光显示、车载光学镜头、智能穿戴陶瓷盖板产业持续扩张，带动蓝宝石衬底、氧化锆陶瓷、光学玻璃超...

   2026-07-16查看详情

3. 碳化硅 CMP 抛光液行业前景分析 第三代半导体衬底耗材国产替代加速落地

   2026 年 800V 高压新能源汽车平台全面普及，光伏储能、工业变频器、大功率快充设备市场需求持续放量，碳化硅作为第三...

   2026-07-15查看详情

4. 2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告 半导体抛光耗材国产化迎来高速窗口期

   2026 年国内半导体产业链扩产节奏持续加快，成熟制程晶圆厂、存储芯片、先进封装产线集中投产，叠加 AI 算力芯片、车载...

   2026-07-14查看详情

5. 驰明普不锈钢清洗液上线200ml定制小样，适配精密金属构件清洗实验

   半导体设备腔体、精密不锈钢治具、新能源金属结构件清洗工艺持续迭代，304、316L 不锈钢材质对清洗剂缓蚀、除油、颗粒剥...

   2026-07-13查看详情

6. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂推出200ml小样，一站式多基材清洗测试

   陶瓷、光学玻璃、蓝宝石抛光后清洗工艺研发中，微量残渣剥离、基材防腐蚀是核心测试指标，三类硬质基材理化特性不同，清洗剂表面...

   2026-07-10查看详情

7. 驰明普蓝宝石 CMP 精抛液上线200ml小样定制，加速光学衬底工艺迭代

   Mini/Micro LED 产业持续扩产，蓝宝石光学衬底、智能穿戴光学镜片新工艺研发需求旺盛。蓝宝石单晶硬度高，精抛配...

   2026-07-10查看详情

8. 驰明普陶瓷CMP精抛液推出200ml定制小样，适配精密陶瓷工艺研发

   智能手机陶瓷中框、射频陶瓷滤波器、半导体氮化铝陶瓷基板市场需求持续攀升，大量新材料企业、材料实验室持续优化陶瓷精密抛光工...

   2026-07-09查看详情

9. 驰明普碳化硅CMP抛光液开放200ml小样定制，助力第三代半导体研发

   新能源汽车、光伏储能产业爆发带动碳化硅功率器件研发热潮，大量科研院所、初创企业围绕 6 英寸、8 英寸 SiC 衬底开展...

   2026-07-09查看详情

10. 驰明普CMP后清洗剂上线200ml定制小样，适配晶圆微量清洗实验

    先进制程晶圆抛光后清洗工艺对配方匹配度高度敏感，不同抛光液、衬底材料、清洗设备对应的清洗剂配比存在明显差异，微小组分改动...

    2026-07-09查看详情

11. 驰明普通用 CMP 抛光液推出200ml小样定制，降低芯片研发试错成本

    国内半导体创新赛道持续扩容，芯片初创企业、高校微电子实验室、特色工艺研发机构数量逐年上涨，各类先进逻辑、存储、Chipl...

    2026-07-08查看详情

12. 驰明普不锈钢清洗液 低腐蚀高洁净参数适配精密金属构件清洗

    半导体设备不锈钢腔体、精密五金、光学不锈钢治具抛光后，表面会留存金属磨料、油污、氧化皮、微量重金属离子，普通酸碱清洗液易...

    2026-07-08查看详情