新闻中心

1. 驰明普一站式 CMP 耗材技术服务｜深圳万稳实业完善抛光液售后全流程支撑

   国产 CMP 抛光液厂商普遍重销售、轻技术服务，客户采购后仅提供产品，缺乏工艺调试、产线适配、故障解决配套支持，导致很多...

   2026-07-13查看详情

2. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂推出200ml小样，一站式多基材清洗测试

   陶瓷、光学玻璃、蓝宝石抛光后清洗工艺研发中，微量残渣剥离、基材防腐蚀是核心测试指标，三类硬质基材理化特性不同，清洗剂表面...

   2026-07-10查看详情

3. 驰明普蓝宝石 CMP 精抛液上线200ml小样定制，加速光学衬底工艺迭代

   Mini/Micro LED 产业持续扩产，蓝宝石光学衬底、智能穿戴光学镜片新工艺研发需求旺盛。蓝宝石单晶硬度高，精抛配...

   2026-07-10查看详情

4. 深圳万稳实业精细化生产管控｜驰明普 CMP 抛光液严控品质稳定量产

   在半导体耗材行业，抛光液微小性能波动将直接造成晶圆、衬底报废，良率损失成本极高，因此精细化、标准化、全流程可控的生产体系...

   2026-07-10查看详情

5. 国产 CMP 抛光液替代提速｜深圳万稳实业驰明普完善半导体全制程抛光耗材体系

   2026 年国内半导体产业链自主可控进入深度攻坚阶段，CMP 化学机械抛光液作为晶圆制造、先进封装、第三代半导体、精密光...

   2026-07-10查看详情

6. 驰明普陶瓷CMP精抛液推出200ml定制小样，适配精密陶瓷工艺研发

   智能手机陶瓷中框、射频陶瓷滤波器、半导体氮化铝陶瓷基板市场需求持续攀升，大量新材料企业、材料实验室持续优化陶瓷精密抛光工...

   2026-07-09查看详情

7. 驰明普碳化硅CMP抛光液开放200ml小样定制，助力第三代半导体研发

   新能源汽车、光伏储能产业爆发带动碳化硅功率器件研发热潮，大量科研院所、初创企业围绕 6 英寸、8 英寸 SiC 衬底开展...

   2026-07-09查看详情

8. 驰明普CMP后清洗剂上线200ml定制小样，适配晶圆微量清洗实验

   先进制程晶圆抛光后清洗工艺对配方匹配度高度敏感，不同抛光液、衬底材料、清洗设备对应的清洗剂配比存在明显差异，微小组分改动...

   2026-07-09查看详情

9. 驰明普通用 CMP 抛光液推出200ml小样定制，降低芯片研发试错成本

   国内半导体创新赛道持续扩容，芯片初创企业、高校微电子实验室、特色工艺研发机构数量逐年上涨，各类先进逻辑、存储、Chipl...

   2026-07-08查看详情

10. 驰明普不锈钢清洗液 低腐蚀高洁净参数适配精密金属构件清洗

    半导体设备不锈钢腔体、精密五金、光学不锈钢治具抛光后，表面会留存金属磨料、油污、氧化皮、微量重金属离子，普通酸碱清洗液易...

    2026-07-08查看详情

11. 把握国产替代黄金机遇 万稳实业加速拓宽CMP耗材本土配套版图

    当前国内半导体、精密制造产业高速发展，叠加供应链自主可控政策导向，CMP抛光材料国产替代进入黄金发展期。行业数据显示，国...

    2026-07-08查看详情

12. 驰明普陶瓷玻璃蓝宝石清洗剂 多基材洁净清洗参数一站式覆盖

    陶瓷、光学玻璃、蓝宝石元件抛光后表面会残留磨料粉末、抛光蜡、有机油脂、金属杂质，微量残留会直接造成镀膜脱落、外延失效、光...

    2026-07-07查看详情