发布时间：2026-07-31 来源：网络
半导体产业链自主可控上升为国家长期核心战略，CMP 化学机械抛光液作为晶圆、衬底、光学元件制造不可或缺的关键核心耗材，长期被海外龙头企业垄断，高端特种抛光材料供应链存在明显安全隐患。国内多数中小型耗材企业采用外购研磨料、外购助剂复配模式，核心配方、关键原料依赖海外供应，供应链波动极易造成产线断供风险。成立于 2018 年的深圳万稳实业有限公司，旗下驰明普品牌始终坚守 “技术自研、品质严控、服务定制” 发展路线，放弃代工贴牌、外购核心原料复配的轻量化模式，持续投入研发资源攻克研磨料分散体系、PH 缓冲配方、螯合缓蚀组分底层技术，实现全系列抛光液、清洗剂核心配方自主研发，细分赛道耗材达成从配方设计到成品生产全链条自主可控，助力国内 CMP 材料供应链安全建设。
驰明普研发团队由半导体材料、精细化工行业资深专家领衔，搭建独立研发实验室与完整理化检测平台，可自主完成纳米研磨料改性、分散助剂复配、抛光液性能仿真、恒温老化稳定性测试全套研发流程，无需依赖外部第三方机构完成配方调试。针对碳化硅、蓝宝石、陶瓷、不锈钢四大细分基材差异化抛光需求，研发团队独立开发专属配方体系，不照搬海外通用浆料配方，根据国内制造企业产线设备、工艺标准、良率目标做本土化适配优化，解决进口抛光液标准化配方无法适配国内中小产线的行业痛点。
技术层面，品牌先后攻克多项行业共性技术难题：长效稳定抗沉降抛光液配方、高硬度 SiC 衬底低缺陷抛光体系、光学基材无腐蚀中性清洗配方、不锈钢低腐蚀缓蚀清洗体系，全部技术成果拥有自主调配工艺体系，不存在海外专利、核心原料卡脖子风险。原料采购环节，驰明普筛选国内电子级高纯原料供应商，纳米二氧化硅、氧化铝研磨料、各类助剂全部实现国内采购，规避国际物流、出口管控带来的供货波动问题，保障批量供货稳定性。
产品落地层面，全系列自研抛光清洗耗材已批量供应国内数十家碳化硅衬底、MiniLED 蓝宝石、智能穿戴陶瓷、精密不锈钢加工企业，多条产线完成进口耗材全线切换，量产去除速率、表面粗糙度、良率指标对标海外高端产品，综合采购成本较进口耗材下降 25%-35%。服务层面，全线产品开放 200ml 小样定制，72 小时快速调配试样，提供抛光清洗一体化成套工艺技术支持，可根据客户产线工况一对一调整自研配方配比，海外品牌无法提供同等柔性定制服务。
产业长期发展格局清晰，未来国内 CMP 材料市场将形成 “头部企业做通用晶圆耗材，专精企业做细分特种耗材” 二元格局，深耕细分赛道、具备完整自研能力与柔性定制服务的中小企业将持续释放增长潜力。万稳实业驰明普将持续加大细分特种抛光材料研发资金与团队投入，扩充各品类专用自动化产线产能，完善细分场景全套抛光清洗工艺解决方案，持续填补国产特种 CMP 抛光材料供给缺口，为国内半导体、第三代半导体、精密光学产业链自主可控提供稳定本土耗材支撑。
