新闻中心

1. 驰明普长效稳定CMP抛光液完成全线升级 解决国产抛光液分层沉降技术痛点

   长久以来，储存易分层、研磨颗粒沉降是制约国产 CMP 抛光液大规模导入高端量产产线的核心技术短板，也是下游晶圆、衬底、光...

   2026-07-27查看详情

2. 深圳万稳实业驰明普完善全系列CMP抛光耗材 打造抛光清洗一体化国产解决方案

   2018 年成立的深圳万稳实业，依托深圳本地半导体、精密光学产业集群，以自有品牌驰明普深耕 CMP 化学机械抛光液研发、...

   2026-07-27查看详情

3. 2026 CMP 抛光材料全产业链深度解析：上游磨料突破、中游浆料细分、下游多赛道需求爆发

   CMP 化学机械抛光材料完整产业链分为上游高纯磨料与电子化学品原料、中游抛光液 / 清洗液研发生产、下游半导体、精密光学...

   2026-07-24查看详情

4. 深圳半导体产业集群释放红利，本地CMP抛光液厂商依托区位优势加速国产替代落地

   珠三角是国内规模最大的精密光学、消费电子、半导体先进封装产业集群，深圳作为核心枢纽城市，聚集 Mini LED、蓝宝石加...

   2026-07-24查看详情

5. 2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告解读｜国产 CMP 抛光材料迎来黄金替代发展周期

   近期行业机构发布《2026 中国 CMP 抛光液行业发展报告》，报告全面梳理国内 CMP 抛光液市场规模、细分赛道需求、...

   2026-07-24查看详情

6. 精密光学 CMP 抛光耗材行业趋势｜蓝宝石陶瓷抛光液国产替代 2026 持续提速

   消费电子、Mini LED、AR 光学、光纤通信四大精密光学产业持续扩容，带动蓝宝石、氧化铝陶瓷基材 CMP 抛光耗材需...

   2026-07-24查看详情

7. 绿色制造政策推动 CMP 耗材迭代，低毒中性环保抛光清洗液成行业升级核心趋势

   国内工业绿色制造、废水排放管控政策持续收紧，半导体、精密光学、五金加工企业环保改造压力加大，传统含强酸碱、高毒助剂的抛光...

   2026-07-23查看详情

8. 先进封装产业扩容带动 CMP 耗材增量，TSV/RDL 工艺拉动多品类抛光清洗液需求增长

   Chiplet 芯粒、3D 堆叠、TSV 硅通孔、RDL 再布线层先进封装技术快速普及，国内长电科技、通富微电、华天科技...

   2026-07-23查看详情

9. CMP后清洗液行业发展趋势 2026｜陶瓷不锈钢专用细分清洗耗材迎来国产替代增长风口

   CMP 后清洗是抛光工艺不可或缺的关键工序，清洗液性能直接决定工件良率与成品品质。2026 年国内 CMP 后清洗液行业...

   2026-07-23查看详情

10. 长效稳定型 CMP 抛光液技术分析｜驰明普抛光液储存与循环使用核心优势全解析

    2026 年国内 CMP 抛光液行业竞争加剧，下游半导体、光学、精密加工企业不再只关注抛光去除速率，抛光液储存稳定性、上...

    2026-07-23查看详情

11. CMP抛光液小样定制行业趋势：中小加工厂、研发实验室倒逼行业试样服务模式革新

    伴随国产 CMP 抛光液替代进程加速，国内光学、半导体、精密五金制造企业新品研发、产线工艺调试需求持续增长，传统海外厂商...

    2026-07-22查看详情

12. 长效稳定型CMP抛光液技术分析：浆料沉降分层痛点破解，重塑行业产品评判标准

    2026 年国内 CMP 抛光液行业竞争从单一去除速率比拼，转向储存稳定性、产线循环使用寿命综合性能比拼，下游半导体、光...

    2026-07-22查看详情