新闻中心

1. 成套 CMP 耗材成行业新趋势，深圳万稳实业驰明普抛光液 + 抛光垫一体化方案落地

   【产业趋势】2026 年 CMP 抛光行业竞争逻辑发生转变，单一抛光液、抛光垫单品采购模式弊端凸显：不同品牌耗材参数不匹...

   2026-06-23查看详情

2. CMP后道洁净成行业刚需，驰明普中性清洗液解决抛光颗粒残留行业痛点

   【技术资讯】随着半导体、光学、消费电子工件加工精度持续提升，抛光后表面纳米颗粒残留、水印、离子污染成为制约良率提升的核心...

   2026-06-23查看详情

3. 驰明普 CMP 抛光液性能对标国际一线，高性价比重塑国内市场格局

   长期以来，国内 CMP（化学机械抛光）耗材市场被美国 Cabot、日本 Fujimi、法国圣戈班等国际一线品牌垄断，本土...

   2026-06-23查看详情

4. 精密机械加工升级，驰明普氧化铝抛光液覆盖金属、结构陶瓷粗精一体化抛光

   【市场分析】2026 年航空航天、精密模具、医疗器械、硬质合金刀具行业快速发展，钛合金、不锈钢、碳化硅结构陶瓷抛光需求激...

   2026-06-22查看详情

5. 成熟制程晶圆持续扩产，驰明普半导体二氧化硅抛光液实现硅片平坦化国产化

   【产业深度】2026 年国内 8/12 英寸成熟制程晶圆厂持续扩产，逻辑芯片、存储芯片产能稳步提升，硅片 CMP 抛光液...

   2026-06-22查看详情

6. 洁净无残留！驰明普CMP中性后清洗液依托多维度参数 解决抛光后颗粒残留难题

   近期，驰明普推出配套全系抛光液使用的CMP中性后清洗液，专为半导体晶圆、光学蓝宝石、手机陶瓷盖板、精密金属工件抛光后清洗...

   2026-06-22查看详情

7. 消费电子陶瓷盖板需求攀升，驰明普陶瓷 CMP 精抛液成国产抛光优选

   【行业快讯】2026 年智能手表、高端手机、无线耳机大规模采用陶瓷外观件，陶瓷盖板 CMP 抛光产能缺口持续扩大。氧化锆...

   2026-06-18查看详情

8. 高切削低损伤！驰明普氧化铝抛光液多维参数优化 覆盖金属 / 陶瓷粗精一体化抛光

   近日，驰明普（CHAMPPRO）氧化铝 CMP 抛光液完成全系列参数升级，面向硬质合金、钛合金、不锈钢、结构陶瓷、碳化硅...

   2026-06-18查看详情

9. 参数对标进口！驰明普半导体硅片二氧化硅抛光液实现晶圆全局平坦化突破

   近期，驰明普（CHAMPPRO）半导体专用二氧化硅 CMP 抛光液完成 8/12 英寸硅晶圆量产工艺验证，产品针对硅片粗...

   2026-06-18查看详情

10. 技术再突破！驰明普金刚石悬浮液以多维参数优势 赋能超硬材料精密CMP抛光

    近期，深圳万稳实业旗下驰明普（CHAMPPRO）金刚石悬浮液凭借优异的综合技术参数与实测性能，在半导体衬底、光学镜片、结...

    2026-06-17查看详情

11. 第三代半导体需求爆发，驰明普金刚石悬浮液填补SiC衬底抛光国产空白

    【产业观察】2026 年新能源汽车、光伏储能拉动碳化硅功率器件产能翻倍，碳化硅衬底 CMP 抛光成为第三代半导体制造核心...

    2026-06-16查看详情

12. 2026 国内 CMP 抛光液国产化提速，驰明普全系列耗材破解多场景加工痛点

    【行业资讯】2026 年国内晶圆、光学、消费电子产能持续扩张，CMP 抛光液国产替代进入黄金周期。据行业调研数据，国内 ...

    2026-06-16查看详情