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先进封装引爆新需求,TSV/RDL 专用CMP抛光液年增 52% 成行业增长极

发布时间:2026-05-27      来源:网络


Chiplet、2.5D/3D 集成、Hybrid Bonding 等先进封装技术快速普及,推动 CMP 工艺从晶圆制造延伸至封装环节,TSV(硅通孔)、RDL(重布线层)专用抛光液需求爆发式增长。据行业测算,先进封装专用 CMP 抛光液市场年均增速达 52%,成为 2026 年行业最具潜力的增长赛道,预计 2030 年市场规模占比将突破 20%。

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先进封装对 CMP 抛光液提出更高要求:需实现多材料界面高选择性去除、原子级表面平整度、低金属离子污染,同时适配高密度集成工艺,保障封装良率。传统抛光液难以满足复杂工况,专用化、定制化产品成为企业核心竞争力,本土企业凭借快速响应、定制服务优势,加速抢占先进封装材料市场。

深圳万稳实业紧跟行业趋势,布局先进封装专用 CMP 材料,驰明普系列产品针对性优化配方,适配 TSV、RDL 工艺需求。公司硅片 CMP 抛光液可实现铜、介质层的精准平坦化,去除速率可控,选择性优异,避免过抛与欠抛问题;CMP 后清洗剂可高效清除封装过程中的颗粒与有机残留,保障芯片互连可靠性。万稳实业依托柔性生产线,支持先进封装专用抛光液小批量定制、快速试样,7 天交付,满足研发与量产双重需求。

作为本土高新技术企业,万稳实业深耕 CMP 领域多年,搭建完善研发体系,产品性能对标国际品牌,价格与服务更具优势。在先进封装国产化浪潮下,公司持续加大研发投入,迭代先进封装专用产品,助力国内封测企业突破材料瓶颈,推动先进封装产业链自主可控。