发布时间：2026-04-01 来源：
【行业动态，2026 年 4 月 10 日】2026 年作为 “十五五” 规划开局之年，半导体关键材料国产化上升至国家战略高度，CMP 抛光液作为核心耗材，迎来政策扶持 + 市场扩容 + 技术突破的黄金发展期，本土企业迎来历史性机遇。
一、政策强力加持：构建全方位支持体系
顶层规划：《“十五五” 规划纲要》将半导体关键材料列为核心攻坚赛道，明确 2026 年 CMP 抛光材料国产化率目标；
资金扶持：国家大基金三期启动，重点布局 CMP 抛光液、抛光垫等核心材料，为本土企业提供研发与扩产资金支持；
采购激励：多地出台政策鼓励晶圆厂、封装厂优先采购国产材料，加速本土化供应链构建。
二、市场扩容：三大需求驱动行业高增长
晶圆厂扩产：国内中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等持续扩产，8/12 英寸晶圆产能提升，直接拉动 CMP 抛光液需求；
先进制程渗透：7nm/5nm/3nm 先进制程规模化量产，CMP 步骤与抛光液用量指数级增长；
下游应用爆发：AI、HBM、新能源汽车、5G 基站带动芯片需求，半导体材料市场 2026 年预计达760 亿美元，同比增长8.5%。
三、万稳实业（驰明普）：抢抓黄金机遇，助力产业自主可控
作为国产 CMP 抛光液新锐力量，万稳实业（驰明普）立足深圳半导体产业集群，以技术创新为驱动、品质为根基，打造全链条运营体系：
研发：持续投入纳米级配方、颗粒分散、选择性去除技术攻关，突破海外垄断；
生产：万级洁净车间、半导体级纯度标准，全流程质控保障产品稳定；
服务：样品测试 + 工艺调试 + 批量供货 + 售后技术支持一站式服务，快速响应客户需求。
未来，驰明普将持续拓展产品边界、提升技术壁垒，致力于成为国内领先、国际一流的 CMP 抛光液解决方案提供商，为中国半导体产业自主发展贡献力量。
