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2026 年 CMP 抛光液行业迎量价齐升 国产替代进入全链条突破期

发布时间:2026-04-07      来源:


行业动态,2026 年 4 月 10 日】全球半导体产业复苏叠加先进制程、3D 封装与 HBM 需求爆发,CMP 抛光液作为晶圆平坦化核心耗材,2026 年迎来量价齐升的行业拐点。据行业数据,2025 年全球 CMP 抛光液市场规模达23.01 亿美元,2026–2032 年复合增长率(CAGR)预计达8.8%;中国市场占比超44%,成为全球最大增长引擎。

一、全球市场:涨价潮延续,供需持续紧张

2026 年 Q1–Q2,国际头部厂商(Cabot、Versum、富士胶片)钨抛光液涨价25%–35%、铜抛光液涨价12%–18%,Q2 合约再涨5%–10%。核心原因:

先进制程(5/3nm)、3D NAND、HBM/3D 封装带动 CMP 步骤指数级增长(7nm 以下制程 CMP 步骤达 30 步以上,抛光液用量翻倍);

全球产能利用率达95%–100%,交期延长至6–10 周(正常 3–4 周),供需缺口持续扩大。

二、国产替代:政策 + 需求 + 技术三重驱动,加速突围

工信部《半导体材料产业高质量发展行动计划(2024–2026 年)》明确,2026 年 CMP 抛光材料国产化率提升至 30% 以上。当前国产替代呈现三大特征:

技术突破:本土企业在金属层(铜 / 钨 / 钴)、介电层(SiO₂/ 氮化硅)、特种基(氧化铈 / 硅溶胶)抛光液领域实现核心指标对标国际一线,成熟制程国产化率超50%;

供应链安全:地缘政治与海外涨价倒逼晶圆厂加速导入国产材料,本土企业进入中芯国际、长江存储、长电科技等核心供应链;

全链条协同:抛光液 + 抛光垫 + 清洗液一体化布局,形成 “材料 + 工艺 + 服务” 的本土化解决方案。

三、万稳实业(驰明普)的行业机遇

作为专注 CMP 抛光液的高新技术企业,万稳实业(驰明普)依托技术自研 + 品质严控 + 服务定制核心竞争力,已形成覆盖半导体全制程的产品矩阵(金属层 / 介电层 / 特种基 / 清洗液 / 定制化),产品适配 8/12 英寸晶圆、先进逻辑 / 存储芯片、TSV 硅通孔等场景,兼容 Applied Materials、Ebara 等主流设备。在行业量价齐升与国产替代加速的窗口期,驰明普正以高纯度、高性能产品助力客户降本增效,成为国产 CMP 材料的重要力量。