发布时间：2026-07-28 来源：网络
2026 年电子工业废水排放新规全面落地，REACH、RoHS、国内 GB 39731 双重环保标准同步收紧，传统含氨水、EDTA、氟化物 CMP 清洗药剂因高 COD、高毒性逐步被市场淘汰，低 VOC、生物可降解、无重金属的绿色清洗液成为行业新增量赛道。数据显示，2026-2034 年环保型后清洗液市场累计增量超 4.2 亿美元，晶圆、光学、金属加工厂商加速切换环保清洗耗材。
传统清洗药剂存在多重短板：SC-1 标准清洗液挥发性氨水污染车间，废水处理成本超千万元 / 年；含氟药剂腐蚀蓝宝石、陶瓷镜面；通用螯合剂难以生物降解，危废处置费用持续走高；市面上多数厂商只生产抛光液，无配套专用清洗剂，企业跨品牌搭配易出现颗粒残留、基材腐蚀工艺冲突。
驰明普布局三大细分环保清洗剂产品线，全部采用生物基可降解螯合剂，无氨水、氟化物、重金属添加，废液简单中和即可达标排放：1. 半导体通用 CMP 后清洗剂，适配硅片、先进封装晶圆，低腐蚀保护金属布线；2. 陶瓷蓝宝石光学清洗剂，中性温和不损伤镜面，无水印雾斑；3. 不锈钢专用清洗液，复配有机缓蚀剂，杜绝金属点蚀发黑。全系列药剂低泡适配自动化超声波产线，常温 6 个月不分层，同时开放 200ml 小样平行测试，整套抛光清洗配方协同优化，清洗残渣去除率 99% 以上。
行业层面，头部晶圆、光学工厂已将环保耗材纳入供应商准入门槛，无法提供低毒可降解药剂的厂商逐步失去订单。驰明普依托抛光液自研优势，同步迭代绿色清洗配方，完善全基材环保耗材布局，契合双碳与电子制造环保政策导向，抢占 CMP 配套清洗细分市场。
