发布时间：2026-07-28 来源：网络
Mini/MicroLED 背光、AR 光学模组、智能穿戴陶瓷盖板、车载激光雷达窗口需求持续爆发，带动蓝宝石、氧化锆陶瓷超精密抛光耗材市场年均增速 18%，预计 2027 年国内蓝宝石抛光液市场突破 20 亿元。光学基材对镜面粗糙度、透光率、缺陷密度要求极致，高端抛光液、配套清洗剂长期依赖富士美等海外厂商，采购溢价高、试样周期长，制约国内光学制造企业出海竞争力。
蓝宝石、陶瓷属于高硬脆性材料，微观孔隙密集，抛光纳米颗粒极易嵌入孔隙；强酸强碱药剂腐蚀镜面造成雾度上升，普通中性清洗剂剥离效率不足，需要 3-5 道纯水漂洗，耗水量大、产线稼动率偏低。同时 MicroLED 外延衬底、消费陶瓷盖板工艺指标完全分化，标准化抛光液无法兼顾高去除速率与低晶格损伤两大需求。
驰明普搭建完整光学抛光清洗产品矩阵：蓝宝石 CMP 精抛液采用高纯球形硅溶胶，抛光衬底 Ra＜0.15nm，无晶格损伤适配外延生长；陶瓷 CMP 精抛液搭配改性分散助剂，有效减少盖板塌边、麻点缺陷，抛光后易清洗；配套陶瓷玻璃蓝宝石中性专用清洗剂，渗透孔隙剥离残渣，漂洗工序缩减 2-3 道，节水 30% 以上。全套产品可组合 200ml 同步试样，技术团队根据抛光机、抛光垫参数一对一优化药剂配比，综合耗材使用成本较进口产品下降 30%。
产业端国内光学终端全球份额持续提升，上游耗材自主配套成为刚需，各地精密制造政策扶持本土光学耗材企业。驰明普持续迭代低缺陷光学抛光配方，完善抛光清洗一体化配套体系，解决海外药剂无法柔性定制的行业痛点，补齐国产精密光学抛光材料短板。
