发布时间：2026-07-17 来源：网络
长久以来，储存分层、颗粒沉降是制约国产 CMP 抛光液大规模替代进口产品的核心技术短板，也是下游制造企业选型时首要关注的性能指标。普通国产抛光液受分散助剂体系限制，常温存放 1 至 2 个月就会出现底部大量沉淀，使用前需要长时间人工搅拌，若搅拌不均匀，上机后极易造成衬底、晶圆批量不良；高温仓储环境下稳定性进一步恶化，企业只能少量多次采购，物流、采购成本持续增加，库存耗材报废损耗严重。海外高端抛光液虽稳定性优异，但采购成本高、定制化服务缺失，行业急需兼顾长效储存稳定与高性价比的国产抛光液解决方案。
抛光液沉降分层本质是纳米研磨颗粒受温度、离子浓度影响发生团聚，传统单一分散剂配方无法长期维持颗粒均匀分散状态。想要实现长效稳定，需要从研磨料选型、缓冲体系、模块化助剂复配多维度同步优化，研发投入门槛高、测试周期长，多数中小型耗材企业难以完成相关技术迭代。近两年头部本土企业加大稳定性研发投入，长效稳定型抛光液逐步实现量产落地，行业竞争逻辑从单纯比拼抛光速率，转向储存稳定性、长期上机一致性综合性能比拼。
深圳万稳实业驰明普研发团队历经两年配方迭代、上千组恒温老化对比测试，完成长效稳定型 CMP 抛光液全系列技术升级，搭建十二功能模块化助剂体系，针对二氧化硅、氧化铝不同研磨料搭配专属抗沉降、分散、螯合助剂组合，从分子层面抑制纳米颗粒团聚，优化 PH 缓冲体系，削弱温度波动对药剂分散状态的影响。加速老化测试数据显示，升级后抛光液常温静置 6 个月沉降厚度不足行业同类产品一半，轻微摇晃即可恢复均匀状态，产线搅拌工时大幅缩减，企业备货周期可从 15 天延长至 90 天，有效降低采购频次与库存损耗。
本次稳定性技术升级覆盖品牌全部抛光产品线：通用半导体 CMP 抛光液、碳化硅抛光液、蓝宝石及陶瓷 CMP 精抛液，配套 CMP 后清洗剂同步优化储存稳定性能。升级款产品全部开放 200ml 对比小样，下游企业可同步申领新旧版本抛光液开展平行上机测试，直观对比储存稳定性、抛光一致性差异。针对存量批量采购客户，技术团队提供产线新旧药剂切换全套工艺指导，无需大规模调整设备参数即可平稳完成迭代。
