发布时间：2026-06-30 来源：网络
【应用拓展】2026 年 Mini/Micro LED、AR/VR 设备、车载光学传感器等产业快速发展，对光学镜片、蓝宝石窗口片等零部件的表面粗糙度、透光率提出亚纳米级严苛要求。传统光学抛光液存在雾度超标、透光率衰减、加工效率低等问题，制约高端光学产品量产。深圳万稳实业驰明普光学专用 CMP 抛光液，以超精密加工性能赋能光学产业升级。
光学加工的核心诉求是 “低损伤、高透光、高一致性”。驰明普光学专用 CMP 抛光液采用高纯纳米磨料与温和化学体系，通过精准控制磨料粒径分布（PDI＜0.12），实现对光学基材的超精细去除，抛光后工件表面粗糙度 Ra≤0.1nm，无雾斑、划痕等缺陷，透光率较传统产品提升 3-5%。产品弱碱性缓冲体系，避免腐蚀光学基材，保障镜片光学性能稳定。
针对不同光学场景，驰明普推出细分型号：Mini LED 衬底专用抛光液适配 2-6 英寸蓝宝石晶圆，去除速率达 450nm/min，72 小时连续上机良率稳定 98.5%；AR 眼镜镜片专用抛光液兼顾高透光率与耐磨损性，满足户外复杂环境使用需求；车载红外窗口片专用抛光液则优化低温稳定性，适配极端温度工况。
目前，驰明普光学专用 CMP 抛光液已批量供应京东方、华星光电等头部光电企业，应用于 LTPS 与 IGZO 工艺段，解决了因背板粗糙度导致的显示不均问题。随着精密光学产业持续升级，产品将进一步拓展至卫星用高反射镜、高端相机镜头等高端场景，助力国内光学制造产业提质增效。
