发布时间：2026-06-25 来源：网络
【政策解读】2026 年 “十五五” 规划纲要明确将 CMP 材料列入 “关键战略材料” 清单，要求本土晶圆厂国产材料采购比例每年硬性提升 5 个百分点。叠加研发费用加计扣除、首批次应用保险补偿等政策红利，国产 CMP 抛光液迎来政策与市场双重驱动的黄金发展期。数据显示，2026 年国内半导体 CMP 抛光液市场规模预计突破 30 亿元，但高端领域进口依赖度仍超 60%，政策红利正加速国产替代进程。深圳万稳实业有限公司旗下驰明普系列 CMP 抛光液凭借全制程覆盖优势，成为政策落地后的直接受益企业。
作为深耕半导体抛光液领域的本土企业，驰明普已构建覆盖金属层、介电层、特种基的全系列产品矩阵，其中金属层 CMP 抛光液适配 7nm 及以上芯片互连工艺，介电层抛光液达成原子级平坦化标准，均通过头部晶圆厂验证。针对政策强调的 “供应链安全” 要求，驰明普实现核心配方自主研发、生产环节国产化可控，交付周期较进口产品缩短 70%，完美契合晶圆厂 “国产替代 + 快速响应” 的双重需求。
在政策引导下，国内晶圆厂加速国产材料验证导入。驰明普凭借低侧蚀、低腐蚀的精准去除效果，以及原子级平坦化表现，近期已与 3 家半导体头部企业达成合作，批量供应金属层与介电层 CMP 抛光液。企业还组建专项技术团队，协助下游客户完成国产材料认证流程，提供从试样到量产的全周期支持，加速政策红利转化为市场份额。
业内专家表示，政策从 “鼓励创新” 转向 “强制导入”，将推动国产 CMP 抛光液市场格局重塑。深圳万稳实业驰明普将持续受益于政策东风，以技术自研、本土服务优势，进一步扩大在半导体领域的市场渗透率，为集成电路材料自主化贡献核心力量。
