发布时间：2026-06-15 来源：网络
近年来，我国高度重视半导体产业发展，出台多项政策支持半导体材料国产化，为本土 CMP（化学机械抛光）耗材企业提供了良好的发展环境。深圳万稳实业旗下驰明普品牌紧抓政策机遇，聚焦 CMP 抛光液、清洗剂、抛光材料等核心产品，构建全品类 CMP 耗材产品矩阵，凭借自主研发的技术优势与高性价比，加速进口替代进程，成为国内半导体材料国产化的重要力量。
半导体产业是国民经济的战略性、基础性和先导性产业，而半导体材料作为半导体产业的核心支撑，其国产化率直接影响我国半导体产业的自主可控水平。为推动半导体材料国产化，国家先后出台《“十四五” 数字经济发展规划》《半导体和集成电路产业发展专项资金管理办法》等政策，明确支持半导体材料、零部件等 “卡脖子” 领域的技术研发与产业化；各地方政府也纷纷出台配套政策，对半导体材料企业给予研发补贴、税收优惠、用地支持等，为本土企业发展保驾护航。例如，深圳市出台的《关于推动智能传感器产业加快发展的若干措施》，对半导体材料企业的研发投入给予最高 500 万元补贴，万稳实业凭借在 CMP 抛光液领域的研发成果，已连续两年获得该项补贴支持。
政策红利的持续释放，为驰明普的发展创造了有利条件。万稳实业充分利用政策支持，加大研发投入，组建专业研发团队，攻克 CMP 抛光液核心配方、磨料分散、化学助剂协同等关键技术，形成涵盖碳化硅、硅片、钛合金、铝合金、不锈钢、蓝宝石、陶瓷等多材质的全系列 CMP 抛光液产品，以及配套的 CMP 后清洗剂、抛光材料，构建起 “抛光液 + 清洗剂 + 抛光材料” 的全品类 CMP 耗材产品矩阵，能够满足半导体晶圆制造、先进封装、精密光学、航空航天、精密制造等多个领域的需求。
在政策引导下，国内半导体企业的国产化采购意愿持续增强。此前，国内 CMP 耗材市场长期被欧美、日本头部企业垄断，国产化率不足 30%，但近年来，在政策要求与成本压力的双重驱动下，国内晶圆厂、封装测试厂、材料厂商纷纷加大国产耗材的导入力度，为驰明普等本土企业提供了广阔的市场空间。例如，国内某 12 英寸晶圆厂在政策要求下，制定了 “2025 年核心耗材国产化率达到 50%” 的目标，驰明普的硅片 CMP 抛光液成功通过其验证，成为该晶圆厂的国产化供应商之一；某先进封装企业为响应国家绿色制造政策，选择驰明普的环保型 CMP 清洗液，替代传统高污染进口产品。
驰明普能够在进口替代中脱颖而出，关键在于其突出的产品优势。一方面，产品性能对标国际先进水平，核心指标如材料去除速率、表面平整度、稳定性等均达到或接近进口品牌，能够满足国内企业的高端需求；另一方面，本土化生产使产品采购成本较进口产品下降 25%~35%，交付周期缩短 50% 以上，同时提供快速定制化服务与本地化技术支持，解决了进口产品 “价格高、交期长、服务慢” 的痛点。此外，驰明普的产品均采用环保型配方，符合国家环保政策要求，成为企业参与市场竞争的重要加分项。
当前，半导体材料国产化已进入加速期，政策支持力度持续加大，市场需求持续增长。据行业预测，2026 年国内 CMP 耗材市场规模将突破 120 亿元，国产化率有望提升至 50% 以上。驰明普将持续紧抓政策机遇，加大研发投入，拓展产品品类，优化供应链布局，进一步提升产品性能与市场竞争力；同时，积极参与行业标准制定，推动国产 CMP 耗材行业规范化发展，为实现半导体材料全面自主可控贡献力量。
