发布时间：2026-05-27 来源：网络
在国内半导体产业加速自主化发展的大背景下，半导体化学机械抛光（CMP）作为芯片制造核心制程，配套抛光液材料的国产化进程备受行业关注。近期，坐落于深圳市南山区的深圳万稳实业有限公司，正式对外推出旗下驰明普（CHAMPPRO） 全系列 CMP 抛光液产品矩阵，多款新品同步落地，覆盖半导体晶圆、光学材料、超硬材料、精密金属等多个应用领域，凭借自研配方技术与成熟生产工艺，为国内制造企业提供高性价比、高性能的一站式抛光解决方案。
作为深耕 CMP 材料领域多年的本土企业，深圳万稳实业始终聚焦抛光液研发、生产、销售与技术服务一体化运营。本次发布的全系列产品包含硅片 CMP 抛光液、蓝宝石抛光液、陶瓷材质抛光液、金属专用抛光液、金刚石悬浮抛光液以及 CMP 配套后清洗液六大主力品类，全系产品遵循高纯度、低损伤、高稳定性的研发标准，从原料甄选到生产灌装均在十万级洁净车间内完成，严格把控产品品质，对标国际一线品牌技术指标。
其中驰明普硅片CMP抛光液是本次主推核心产品，专门针对 8 英寸、12 英寸半导体硅片粗抛、精抛制程研发。产品采用纳米级胶体二氧化硅磨料，磨料粒径分布均匀、团聚率极低，搭配自主复配的助剂体系，在保证较高材料去除速率的同时，能有效降低硅片表面划痕、雾面、凹坑等缺陷。经过多家晶圆制造企业上机实测，该产品可稳定满足 28nm 及以上成熟制程芯片的生产要求，也可适配先进封装环节的抛光作业，表面粗糙度可稳定控制在纳米级别，大幅提升晶圆成品良率。
面向 LED 产业、光学仪器领域的蓝宝石 CMP 抛光液，是万稳实业布局光学材料赛道的重点产品。蓝宝石凭借高硬度、高透光性成为 LED 衬底、光学窗口、摄像头镜片的核心基材，但其硬度高、抛光难度大。驰明普蓝宝石抛光液优化了磨料配比与酸碱体系，兼顾抛光效率与表面平整度，抛光后基材无明显划伤，透光性能不受影响，适配规模化量产生产线与实验室小批量试样场景。
针对碳化硅、结构陶瓷、硬质合金等超硬材料，公司推出金刚石悬浮抛光液，选用高纯度单晶金刚石微粉，结合长效悬浮配方，长时间存放不易分层、沉降，可实现超硬材料的镜面级精抛。而配套的CMP 后清洗液分为中性、弱碱、弱酸三大型号，能够高效清除抛光后工件表面的磨料颗粒、有机残留与微量金属离子，不腐蚀基材，简化清洗工序。
深圳坐拥全国顶尖的半导体与精密制造产业集群，区位优势显著。深圳万稳实业依托地域产业资源，组建专业研发团队，坚持核心配方自主研发，摆脱对外资材料的依赖。目前公司不仅提供标准化抛光液产品，还可根据客户设备参数、加工材质、工艺要求提供定制化配方服务。此次全系列产品的正式面世，进一步丰富了国产 CMP 抛光液供给，未来企业也将持续加大研发投入，迭代产品性能，助力国内半导体、光学、精密制造等产业实现材料自主可控。
