CMP抛光液 CMP后清洗剂 抛光材料

陶瓷、玻璃、蓝宝石清洗剂

产品简介

本产品是森博磨抛研究中心生产的陶瓷、玻璃、蓝宝石等加工清洗剂新产品。该产品无金属离子沾污,保护设备,能有效去除陶瓷、玻璃、蓝宝石研磨/抛光片表面残留的各种有机物、金属离子和吸附粒子,对研磨/抛光片表面上颗粒的去除均一性好,不出现花状表面,且使用寿命长。


主要特点

该产品含有多种表面活性剂,能够有效降低清洗剂的表面张力,保证清洗的均一性,同时其有机碱成分能够去除陶瓷、玻璃、蓝宝石等研磨/抛光片表面的吸附颗粒,并能够溶解表面有机污染物,且具有缓冲作用,既保证了清洗的一致性,又提高了产品的寿命,属于环保型产品。


主要用途

该产品主要用于陶瓷、玻璃、蓝宝石等研磨/抛光片的表面清洗。


基本参数

此处配参数图


使用方法

1、使用前加入去离子水(5~15)倍(根据研磨片污染情况及工艺而定)。

2、建议超声清洗温度50℃~70℃。

3、建议清洗时间(10~20)分钟。


运输及保存

1、运输与存放过程中要避免光直射。

2、运输与存放温度为5℃~35℃。

3、运输与存放时包装桶最多摆放2层。

4、保质期一年,建议半年内使用。